(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221652279.8 (22)申请日 2022.06.28 (73)专利权人 宁夏润阳硅材 料科技有限公司 地址 753499 宁夏回族自治区石嘴山市平 罗县工业园区山水 大道596号 (72)发明人 徐志国　吴瑾东　王奕凯　梁学勤　 段波　赵明　 (74)专利代理 机构 宁夏君创未来专利代理事务 所(普通合伙) 64107 专利代理师 周晓梅 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/10(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01)F26B 11/18(2006.01) F26B 23/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) F25D 17/04(2006.01) (54)实用新型名称 一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统 (57)摘要 本申请涉及一种多晶硅还原炉用多功能清 洗系统， 清洗容器内设置的多个隔挡板将清洗容 器内分隔为多个容纳腔， 桁架机器人用于夹抓待 清洗件从一个容纳腔搬移至另一容纳腔， 多个容 纳腔中包括依次排列的第一容纳腔、 第二容纳腔 和第三容纳腔， 第一容纳腔容纳有碱液或酸液， 且安装有第一转动平台、 第一加热模组、 第一鼓 泡模组和第一温控模组， 第二容纳腔容纳有清 水， 且安装有第一搅转机构和超声换能器， 第三 容纳腔的内壁安装有多个加热条， 加热条用于加 热烘干待清洗件。 上述方案能够自动完成氮化硅 瓷环以及硅芯的清洗， 清洗效率高， 且清洗过程 无需人工参与， 减轻工作人员的劳动强度， 同时 也避免了人工操作的过程中腐蚀性液体溅出伤 人事故的发生。 权利要求书1页 说明书7页 附图1页 CN 217963815 U 2022.12.06 CN 217963815 U 1.一种多 晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 包括清洗容器 （100） 、 桁架机器 人 （200） 、 清洗上料平台 （300） 和清洗下料平台 （400） ， 所述清洗容器 （100） 内设置有多个隔 挡板 （500） ， 将所述清洗容器 （100） 内依次分隔为多个上端开口的容纳腔， 所述桁架机器人 （200） 设置于所述清洗容器 （100） 上方， 用于夹抓待清洗件从一个所述容纳腔搬移至另一所 述容纳腔， 多个所述容纳腔中包括依次排列的第一容纳腔 （110） 、 第二容纳腔 （120） 和第三 容纳腔 （130） ， 所述第一容纳腔 （110） 容纳有碱液或酸液， 且安装有第一转动平台 （111） 、 第 一加热模组 （112） 、 第一鼓泡模组 （113） 和第一温控模组 （114） ， 且与所述清洗上料平台 （300） 的一侧相连， 所述第二容纳腔 （120） 容纳有清水， 且安装有第一搅转机构 （121） 和超声 换能器 （122） ， 所述第三容纳腔 （130） 的内壁安装有多个加热条 （131） ， 所述加热条 （131） 用 于加热烘干所述待清洗件， 所述第三 容纳腔 （13 0） 的一侧与所述清洗下 料平台 （40 0） 相连。 2.根据权利要求1所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 多个所述 加热条 （131） 等间隔设置， 且任意相邻的两个所述加热条 （131） 之间设置有多个第一气吹头 （132） ， 多个所述第一气吹头 （132） 可吹出高压 干燥冷却洁净气体， 用于冷却所述待清洗件。 3.根据权利要求1所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第 三 容纳腔 （130） 的底部安装有第二转动平台 （133） ， 所述待清洗件 可放置于所述第二转动平台 （133） ， 所述第二 转动平台 （13 3） 可带动所述待清洗件旋转。 4.根据权利要求1所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第 一 容纳腔 （110） 与所述第二容纳腔 （120） 之间还具有第四容纳腔 （140） ， 所述第二容纳腔 （120） 与所述第三容纳腔 （130） 之间还具有第五容纳腔 （150） ， 所述第四容纳腔 （140） 和所述第五 容纳腔 （150） 的内壁均 设置有多个冲洗喷头 （141） ， 多个所述冲洗喷头 （141） 可喷出高压清 水， 用于冲洗所述待清洗件， 所述第四容纳腔 （140） 和所述第五容纳腔 （150） 的底部开设有 快排水口 （142） 。 5.根据权利要求4所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第 一 容纳腔 （110） 与所述第四容纳腔 （140） 之间还具有第六容纳腔 （160） 和第七容纳腔 （170） ， 所 述第六容纳腔 （160） 容纳有清水， 且安装有第二搅转机构 （161） 和第二鼓泡模组 （162） ， 所述 第七容纳腔 （170） 容纳有碱液或氢氟酸溶液， 且安装有第三搅转机构 （171） 和第三鼓泡模组 （172） ， 所述第一容纳腔 （110） 、 所述第六容纳腔 （160） 、 所述第七容纳腔 （170） 和所述第四容 纳腔 （140） 依次连接 。 6.根据权利要求5所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第 一 容纳腔 （1 10） 与所述第七容纳腔 （170） 内均设置有pH检测器 （173） 。 7.根据权利要求4所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第 二 容纳腔 （120） 与所述第五容纳腔 （150） 之间还具有第八容纳腔 （180） ， 所述第八容纳腔 （180） 容纳有脱盐水， 且安装有第四搅转机构 （181） 、 第四鼓泡模组 （182） 、 第二加热模组 （183） 和 第二温控 模组 （184） 。 8.根据权利要求4所述的一种 多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 其特征在于， 所述第五 容纳腔 （150） 与所述第三容纳腔 （130） 之间还具有第九容纳腔 （190） ， 所述第九容纳腔 （190） 的内壁设置有多个第二气吹头 （191） ， 多个所述第二气吹头 （191） 可吹出高压干燥洁净气 体， 用于吹去所述待清洗件上的至少部分液体。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217963815 U 2一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统 技术领域 [0001]本申请涉及多晶硅生产技术领域， 特别是涉及一种多晶硅还原炉用多功能清洗系 统。 背景技术 [0002]在生产多晶硅 的生产技术中， 改良西门子法为主要的生产方法。 多晶硅还原炉电 极及其配件是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备， 也是决定还原炉正常生产稳定的关 键环节。 还原炉电极及配件是生产多晶硅的核心部件， 关系到还原炉稳定性， 决定还原炉的 产能。 例如： 还原炉电极 （硅 芯） 与还原炉 底盘的绝缘依靠四氟套和氮化硅瓷环， 氮化硅瓷环 同时起着延长底盘与炉内电极头之间高压击穿时爬电距离的作用。 由于氮化硅瓷环在炉 内， 受还原炉内高温和物料 的影响， 结垢严重同时不易清理， 造成绝缘下降， 在高压击穿和 正常生产过程中接地。 所以氮 化硅瓷环需要定期拆下更换。 相似地， 还原炉的硅 芯也需要定 期拆下更换。 同时， 为保证还原炉内清洁度， 硅芯使用前需进行清洗 。 [0003]由于氮化硅瓷环及硅芯采购价格较贵， 因此， 为节约成本， 定期将氮化硅瓷环及硅 芯更换下来， 在使用前， 清洗表 面垢层后回收利用， 可以大大节约成本。 现有技术中， 氮 化硅 瓷环清洗的方式是将其浸泡在氢氧化钠的溶液中， 消 耗掉绝缘瓷环上附着的硅， 然后使用 脱盐水进 行清洗最后用风机烘干， 硅芯清洗的方式是将其浸泡在氢氟酸和硝酸的混合溶液 中， 消耗掉绝缘瓷环上附着的硅， 然后使用清水进行清洗最后用风机烘干， 但是现有的技 术， 氮化硅瓷环以及硅 芯的清洗均需要 人工完成， 工作人员劳动负荷重， 劳动强度大， 并且， 在碱液或酸液中打捞， 也 容易造成碱液或酸液 溅出伤人事故， 存在人员安全隐患。 实用新型内容 [0004]基于此， 有必要针对现有的技术中氮化硅瓷环以及硅芯的清洗均需要人工完成， 工作人员劳动负荷重， 劳动强度大， 并且， 在碱液或酸液中打捞， 也容易造成碱液或酸液溅 出伤人事故， 存在人员安全隐患。 提供一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 能够自动完成 氮化硅瓷环以及硅芯的清洗， 清洗效率高， 且清洗过程无需人工参与， 减轻工作人员的劳动 强度， 同时也避免了人工操作的过程中腐蚀性液体溅 出伤人事故的发生， 从而提高安全性。 [0005]一种多晶硅还原炉用多功能清洗系统， 包括清洗容器、 桁架机器人、 清洗上料平台 和清洗下料平台， 所述清洗容器内设置有多个隔挡板， 将所述清洗容器内依 次分隔为多个 上端开口的容纳腔， 所述桁架机器人设置于所述清洗容器上方， 用于夹抓待清洗件从一个 所述容纳腔搬移至另一所述容纳腔， 多个所述容纳腔中包括依 次排列的第一容纳腔、 第二 容纳腔和 第三容纳腔， 所述第一容纳腔容纳 有碱液或酸液， 且安装有第一转动平台、 第一加 热模组、 第一鼓泡模组和 第一温控模组， 且与所述清洗上料平台的一侧相连， 所述第二容纳 腔容纳有清水， 且安装有第一搅转机构和超声换能器， 所述第三容纳腔的内壁安装有多个 加热条， 所述加热条用于加热烘干所述待清洗件， 所述第三容纳腔的一侧与所述清洗下料 平台相连。说　明　书